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測(cè)維光電成功研發(fā)一整套顯微鏡測(cè)量系統(tǒng)

發(fā)布時(shí)間:2011-01-10 作者: 來源: 瀏覽:289987

      2010年測(cè)維光電成功研發(fā)出一整套顯微測(cè)量系統(tǒng),為我國(guó)顯微數(shù)碼成像行業(yè)的發(fā)展,盡一份綿薄之力,我們相信測(cè)維的明天更美好!

      全部顯微鏡系統(tǒng)由進(jìn)口件經(jīng)測(cè)維工廠精心組裝而成,其光學(xué)品質(zhì)達(dá)到國(guó)外同功能臺(tái)式機(jī)水平,在技術(shù)上填補(bǔ)了國(guó)內(nèi)這方面的空缺,又因?yàn)槭钦盗蟹瞰I(xiàn)所以不用再東拼西湊的組合成套,具有很優(yōu)越的兼容性。工業(yè)級(jí)檢查顯微鏡具明顯的優(yōu)勢(shì)是專門為在線生產(chǎn)量身打造,攻克了目力觀察的弊端和場(chǎng)地狹小的限制。提高了生產(chǎn)流水線的技術(shù)含量和整合品質(zhì)。其超值的優(yōu)越性是不言而喻的

      儀器特點(diǎn):整個(gè)顯微鏡系統(tǒng)以影像法為測(cè)量原理,采用光學(xué)焦點(diǎn)位置檢測(cè)方式進(jìn)行非接觸高低差測(cè)量。不僅可以對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)影像,還能觀察測(cè)量點(diǎn)的表面狀態(tài),對(duì)高度,深度,高低差等進(jìn)行測(cè)量。而且顯微鏡的各種鏡筒還具有明暗場(chǎng),微分干涉,偏光的觀察功能。所以對(duì)極細(xì)微的間隙高低差,夾雜物、微米以下的突起、細(xì)微劃痕進(jìn)行觀察。

      儀器用途:此款顯微鏡適用于硅片、IC、LCD、TFT、PCB、MEMS激光加工、晶片測(cè)試、半導(dǎo)體材料、線束加工蝕刻、液晶電池蓋、導(dǎo)線框架等產(chǎn)品的檢查觀察.也適用于經(jīng)過磨拋、化學(xué)處理的工件表面的金相組織結(jié)構(gòu),幾何形狀進(jìn)行顯微觀測(cè)。并且有三維的計(jì)量功能,其解析率達(dá)0.0005mm。因此是精密零件,集成電路,半導(dǎo)體芯片,光伏電池,光學(xué)材料等行業(yè)的必用儀器。

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