計量并不廉價??計量專家的費用和計量工具的成本就不低??但如果是以生產(chǎn)和成品率為目標的話，那么它絕對算得上價廉物美。
　　多年以來，許多業(yè)內(nèi)人士都認為計量是一項非增值的花費，但是隨著在器件制造流程中計量重要性的不斷提高，它正在快速地成為幫助獲取巨額收入的關鍵因素之一。在一篇研究內(nèi)容廣泛全面的研討會論文中，對這種重心轉移背后的原因進行了明確的描述，對于那些在各類檢查、測量和測試應用中生產(chǎn)或使用計量的從業(yè)者來說，這篇論文應該被視為最重要的參考資料之一。

　　通過對“增值”計量的討論，論文的第一作者、國際半導體技術制造協(xié)會（ISMI）的Benjamin Bunday，與來自ISMI和Sematech、Freescale、Advanced Micro Devices、Intel、Spansion、Texas Instruments和IBM的合作者們一起，解釋了為什么將計量看成是一項非增值花費的傳統(tǒng)“思維”，已經(jīng)成為一種誤導性的危險論斷。正如Bunday所說：“在當前最新工藝出現(xiàn)中的各種重要的技術趨勢，比如光學鄰近修正（OPC）、可制造性設計（DFM）和先進工藝控制（APC）等，實際上都基于在 誤差和精度方面，可以對計量進行精細的調(diào)整這個前提假設?！?/P>

　　Bunday和合著者們解釋了為什么在特征尺寸計量和套刻精度、薄膜與缺陷計量領域內(nèi)處處都可以找到這樣的例證。以APC為例，他們展示了這個全新的概念是如何使計量在最終產(chǎn)品質(zhì)量中扮演主要角色的：“過去，計量監(jiān)測工藝流程的結果，而且主要用途是出現(xiàn)異常偏差后進行返工和‘在事后’對工藝進行調(diào)整。APC將它推到一個新的水平，通過‘過程中修正’來不斷地將工藝向目標引導?！边@篇論文分析了典型的柵層APC循環(huán)，其中計量數(shù)據(jù)被反饋以用于調(diào)整光刻設置，同時又被前饋來調(diào)整基于光刻結果的柵刻蝕；對快速熱退火注入步驟進行精細的調(diào)整，以進一步修正柵刻蝕步驟中可能出現(xiàn)的任何異常偏差。

　　在光刻工藝建模和OPC校準和驗證中??所有這些都是不斷地從一個節(jié)點進步到另一個節(jié)點的基礎??計量已經(jīng)成為關鍵?！叭绻皇褂霉饪探：头直媛试鰪娂夹g，現(xiàn)代技術的發(fā)展就是絕不可能的，”Bunday說?！傲私夤饪烫卣鲌D形的實際CD的信息，是開發(fā)基于物理的光刻模擬器的關鍵，而且這些與用于對它們進行驗證和校準的計量的表現(xiàn)一樣出色。”

　　論文中還包括一份計量工具性能的簡短調(diào)查。這值得關注，因為它突顯了一些需要克服的障礙，以及可能為當前和今后的計量問題提供解決方案的技術趨勢。Bunday評論了各種CD計量平臺、套刻精度計量工具和缺陷計量系統(tǒng)，得出的結論是大多數(shù)技術都有望以某種形式擴展到32nm或以下節(jié)點；CD-SEM會繼續(xù)向前發(fā)展，而光學CD工具將推進到22nm節(jié)點附近，雖然它們在那之后可能會遇到麻煩。

　　論文中有一部份是對計量工具的投資回報率（ROI）進行建模分析，并介紹了對工廠內(nèi)的不同計量工具進行分析的各種方法和成本模型。Bunday承認，為OPC、DFM、APC和系統(tǒng)與隨機成品率提升收集數(shù)據(jù)需要不同的平臺，為了計算出這些變量的“附加值”，需要全面了解它們中的每一項對成本底線和投資回報率的貢獻。