日本精工納米科技有限公司將推出一款全新用于測定微小區(qū)域的鍍膜厚度及RoHS對象有害元素的最新產(chǎn)品??SFT9500，該產(chǎn)品將在全球同步上市。 對于鍍膜的組成及其厚度的分析測定是保證半導(dǎo)體產(chǎn)品、電子部件、印刷線路板等產(chǎn)品的性能，質(zhì)量及控制成本的不可缺少的基本方法。為適應(yīng)產(chǎn)品的微型化及對鍍膜的薄型化的需求，國際市場迫切地需要能夠準(zhǔn)確地測定納米級的鍍膜。同時，對這些微小區(qū)域內(nèi)RoHS所指定的有害元素分析已成為不可缺少的環(huán)節(jié)之一。 作為熒光X射線技術(shù)的先驅(qū)，日本精工納米科技有限公司成功地開發(fā)了測定微小區(qū)域的鍍膜厚度及RoHS對象有害元素的最新產(chǎn)品??SFT9500。其特點為，采用先進的X射線聚光技術(shù)，使高輝度的0.1mmφ以下的X射線照射成為可能，同時，又徹底解決了由于照射強度的不足而引起的分析結(jié)果的準(zhǔn)確度下降這一歷史難題。同時搭載高計數(shù)率，高分辨率的半導(dǎo)體檢測器，在測定鍍膜厚度的同時，對于歐共體的RoHS＆ELV法規(guī)所定的有害元素分析測定也十分有效。